PVD是物理气相沉积的简称,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移,在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层,其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质,利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离,经过“蒸发或者溅射”后,在电场的作用下,在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。
在日常的操作中,有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题,在PVD真空镀膜过程中,镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时,采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力,从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。
真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要,直接影响到电镀的产品品质。加工件进入镀膜室前一定要做到认真的镀前清洁处理,表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物,为了避免加工过程中造成的不良,真空镀加工厂家基本上可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面,不能在大气环境中存放,要用封闭容器或保洁柜贮存,以减小灰尘的沾污。用刚 氧化的铝容器贮存玻璃衬底,可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。因为这些容器优先吸附碳氢化合物。真空镀膜加工对于 高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面,一般应贮存在真空干燥箱中。
以上信息由专业从事表面纳米涂层的菱威纳米于2024/4/24 7:18:55发布
转载请注明来源:http://jieyang.mf1288.com/lingwei2019-2740804843.html